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四(乙基甲基胺基)鉿（Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV)）綜合信息

一、?基礎信息?

• ?分子式?：?C??H??HfN??，?分子量?：410.9，?CAS號?：352535-01-4?12。

• ?別名?：四(甲乙氨基)鉿、四雙(乙基甲基氨)鉿(IV)、TEMAH等?13。

二、?物理性質?

1. ?外觀與狀態(tài)?：

• 商品形態(tài)多為 ?黃色液體? 或 ?無色至淡黃色固體?（取決于溶劑和純度）?12。

• ?沸點?：79°C（0.1 mmHg），?熔點?：<-50°C，?密度?：1.324 g/cm3，?閃點?：52°F（約11°C）?26。

2. ?溶解性?：可溶于甲苯、乙酸乙酯等有機溶劑，但對濕氣敏感?12。

三、?化學性質與安全性?

• ?穩(wěn)定性?：空氣中穩(wěn)定，但遇水或濕氣迅速分解，釋放酸性副產物?12。

• ?危險性?：

• ?易燃性?（GHS02）：閃點低，需遠離火源?12。

• ?刺激性?（GHS07）：對眼睛、皮膚和呼吸系統(tǒng)具腐蝕性?12。

• ?風險術語?：R11（高度易燃）、R14（遇水劇烈反應）、R36/37/38（刺激眼睛/皮膚/呼吸道）?12。

• ?安全操作?：需佩戴防護裝備，接觸后立即沖洗，儲存于惰性氣體環(huán)境?13。

四、?制備方法?

• ?工業(yè)化生產?：

1. 正丁基鋰與N-甲基乙基胺在烷烴溶劑中反應，生成鋰鹽?7。

2. 加入四氯化鉿，低溫反應后回流，經離心去除副產物氯化鋰?7。

3. 減壓蒸餾回收溶劑并提純產物?7。

五、?應用領域?

1. ?半導體薄膜沉積?：

• 作為 ?CVD/ALD工藝前驅體?，用于沉積高介電常數(shù)氧化鉿（HfO?）或氮化鉿薄膜，替代傳統(tǒng)SiO?柵極材料?37。

2. ?有機催化?：

• 催化氧化反應、二氧化碳固定及聚合物合成?16。